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일반산업용가스(INDUSTRIAL GASES)
- 산소(Oxygen)-O₂
- 헬륨(Helium)-He
- 질소(Nitrogen)-N₂
- 수소(Hydrogen)-H₂
- 알곤(Argon)-Ar
- 암모니아(Ammonia)-NH₃
- 아세틸렌(Aceylene)-C₂H₂
- 후레온가스(Freon Gas) 및 대체품₂
- 탄산가스(Carbon Dioxide)-CO₂
- 육불화황(Sulfur Hexafluoride)-SF6
- 에틸렌(Ethylene)-C₂H₄
- 프로필렌(Propylene)-C3H6
액화가스(LIQUID GASES)
- 액체질소(Liquid Nitrogen)-LN₂
- 액체알곤(Liquid Argon)-LAr
- 액체산소(Liquid Oxygen)-LO₂
- 액화탄산(Carbon Dioxide)-LCO₂
- 액화헬륨(Liquid Helium)-LHe
고순도가스(PURE GASES)
- 고순도질소(Nitrogen)-N₂
- 초고순도질소(Nitrogen)-N₂
- 고순도산소(Oxygen)-O₂
- 초고순도수소(Hydrogen)-H₂
- 초고순도알곤(Argon)-Ar
- 초고순도헬륨(Helium)-He
- 고순도탄산탄소(Carbon Dioxide)-CO₂
- 고순도아세틸렌(Aceylene)-C₂H₂
- 고순도압축공기(Air)-O₂/N₂
고순도순수가스(ATMOSPHERIC GASES)
- 압축공기(Air)-O₂/N₂
- 암모니아(Ammonia)-NH₃
- 황화수소(Hydrogen Sulfide)-HCl
- 액체염소(liquid Chlorine)-LCl₂
- 아산화질소(Nitrous Oxide)-N₂O
- 메탄(Methane)-CH₄
- 아황산가스(Sulfur Dioxide)-SO₂
- 일산화탄소(Carbon Monoxide)-CO
- 삼염화붕소(Boron trichloride)-BCl₃
- 플루오르화붕소(Boron trifluoride)-BF₃
- 프로판(Propane)-C₃H8
- 이소부틸렌(Isobutylene)-C₄H8
- 1,3-부타디엔(1,3-Butadine)-C4H8
- n-부탄(n-Butane)-C₄H10
- 1-부텐(1-Butene)-C₄H8
- 2-부텐(2-Butene)-C₄H8
- 이소부탄(Isobutane)-C₄H10
- 디에틸에터(Dimethyl ether)-(CH3)₂O
- 디메틸아민(Dimethyl Anhydrous)-(CH3)₂NH
- 중수소(Deuterium)-D₂
- 불소(Fluorine)-F₂
- 헥사플루오르프로필렌(Hexafluoro propylene)-C₃F6
- 브롬화수소(Hydrogen bromide)-HBr
- 염화수소(Hydrogen chloride)-HCl
- 불화수소(Hydrogen fluoride)-HF
- 요드화수소(Hydrogen iodide)-HI
- 황화수소(Hydrogen sulfide)-H₂S
- 네온(Neon)-Ne
- 크립톤(Krypton)-Kr
- 크세논(Xenon)-Xe
- 염화메틸(Methyl Chloride)-CH₃Cl
- 불화메틸(Methyl fluoride)-CH₃F
- 메틸메캅탄(Methyl mercaptan)-CH₃SH
- 모노메틸아민(Monomethylamine)-CH3NH₂
- 일산화질소(Nitric oxide)-NO
- 이산화질소(Nitrogen dioxide)-N₂O₄(NO₂)
- 포스겐(Phosgene)-COCl₂
- 사불화황(SULFUR TETRAFLUORIDE)-SF₄
- 트리메틸아민(Trimethylamine)-(CH₃)₃N
- 에탄(Ethane)-C₂H6
- 염화2플루오르화메탄(Halocarbon, Monochlorordifluoromethane)-CHClF₂
표준혼합가스(STANDARD MIXER GASES)
- Standard Gases(표준가스)
- Standard Gases for Air Pollution(대기오염감시용 표준가스)
- Gases for Petro Chemicals(석유화학공정)
- Gases for Medical Treatment(의료용가스)
- Mixer Gases(혼합가스)
- 시험연구용
- Standard Gases For The NCC Process
- Gases for Electro Process Control(공정관리용)
- Laser Type Mixer Gases(레이저타입 혼합가스)
- Semiconductor Gases(반도체제조용가스)
- Gases for Etching & Cleaning(애칭/크리닝용 가스)
- Gases for Silicon Devices(Silane) (실란계가스)
- Others Specialty Gases(기타 특수가스)
- Gases for FIA, FID (FID, FID용 조연가스)
- Gases for Electro Tube and Fluorescent Tube (전자관 및 형광용 가스)
- Gases for Incandesce Electric Lamp(전구주입용가스)
- Gases for DOPANTS(도핑용가스)
- Gases for Ion Implantion(이온 주입용 가스)
- Electronics Gas Mixtures
- Leaer Gas Mixtuers
- Gases for Laser(레이저 발진용 가스)
- Gases for Diving(잠수용가스)
- Others Specialty Gases(기타 특수가스)
액화가스(LIQUID GASES)
- Silicon Group
- Aresenic Group
- Phosphorus Group
- Boron Group
- Hydride Group
- Halogen, Halogenide Group
- Halogeno - Hydrocabon Group
- Nitrogen Oxide Group
- E.T.C. Group
- Carrier Gases Group
- E.T.C.
- Balance
반도체용가스(SEMICONDUCTOR GASES)
- 의료용산소(Oxygen)-O₂
- 의료용질소(Nitrogen)-N₂
- P아산화질소(Nitrous Oxide)-N₂O
연료용가스
-액화석유가스(LIQUEFIED PETRILEUM
GASES)
- 프로판(Propane)-C₃H8
- n-부탄(n-Butane)-C₄H10
- 이소부탄(Isobutane)-C₄H10
- 에탄(Ethane)-C₂H6
- 메탄(Methane)-CH₄
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